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镍蚀刻剂 TFG
NICKEL ETCHANT TFG
产品别名
镍蚀刻剂 TFG
NICKEL ETCHANT TFG
本品是适用于蚀刻电沉积镍薄膜的高纯蚀刻剂。镍蚀刻剂TFG与铜、砷化镓以及其他Ⅲ-Ⅴ化合物相匹配。这种蚀刻剂与阳性和阴性光刻胶都有良好的匹配性。它用于氧化铝基板上,是金、镍、镍铬或铬电阻的理想蚀刻剂。
Transene薄膜蚀刻剂(镍TFB和镍TFG)是高纯硝酸盐基蚀刻剂用于蚀刻蒸发或电镀镍膜,镍蚀刻剂与阴、阳性光刻胶材料都具有良好匹配性。建议使用的光刻胶为AZ-111,AZ-1350OH和KMER。镍蚀剂用于蚀刻金、镍、镍铬膜以制作电阻板。镍蚀刻剂TFG与铜相匹配。
特点:
·廉价经济
·与阳性、阴性光刻胶都相匹配
·线条轮廓清晰
·蚀刻速率均匀
性质:
蚀刻剂 | TFG |
操作温度 | 40℃ |
蚀刻速率 | 50 Å /秒 |
镍沉积法 | 化学镀/电镀 |
蚀刻能力 | - |
典型膜厚 | - |
罐 | 玻璃 |
应用:
镍蚀刻剂是浸泡型产品,购来马上可用,蚀刻速率通过操作温度加以控制。镍通常在氧化铝基板上夹于金和镍铬或铬之间,对蒸发法或化学镀制的镍都适用。实际蚀刻时要根据膜厚和操作温度控制蚀刻时间,不过对于蒸发法镍一般是1分钟,而对于化学镀镍是4分钟。蚀刻过后应用水冲洗。